三星电子将按英伟达要求采用TSMC 3nm工艺制造NVHBM基础裸片

Citrini 分析师 jukan 在 X 平台发文表示，据韩国媒体报道，三星电子已决定应英伟达要求，采用 TSMC 3nm 工艺制造 NVHBM 基础裸片。三星电子尚未完全排除使用自有晶圆代工产线，并正在验证在 NVHBM 需求超过 TSMC 产能的情况下于内部生产基础裸片的可行性。